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RTP（Rubidium Titanyle Phosphate–RbTiOPO4）是KTP晶體的同類型晶體，有更高的電光性能，可用于電光效應以及非線性效應方面。RTP晶體具有較高的損傷閾值（約為KTP的1.8倍）、電阻率高、重復頻率高、不潮解、機械化學性能穩定，不產生壓電效應等優點。RTP透過范圍非常寬，在400nm到4μm之間都有良好的光學透過率，其透過范圍從350nm-4500nm，并且對于腔內激光操作效果非常好。RTP的高抗光傷閾值優勢顯著，在1064nm波段可達到1GW/cm2，1ns，10Hz。
主要優勢：
●高重復頻率電光應用的優良晶體
●較大的非線性光學和電光系數
●低半波電壓
●無壓電振蕩效應，不潮解
●高抗光損傷閾值，高消光比
主要應用：
●電光調Q開關（激光測距、激光雷達、醫用激光器、工業激光器）
●激光功率/相位調制
●脈沖選擇器
標準要求：
1064nm傳輸率 | >98.5% |
可用孔徑 | 3, 4, 5, 6, 7, 8, 9, 10, 11, 12mm |
1064nm半波電壓 | 1000V (3x3x10+10) |
普克爾盒尺寸 | 常規尺寸Dia. 25.4 x 35mm （給3x3 通光, 4x4通光, 5x5 通光），其他口徑也可訂制外殼，按客戶要求訂制 都可提供緊湊設計的底座支架 |
消光比 | >23dB |
接受角度 | >1° |
損傷閾值 | >600MW/cm2 at 1064nm (t = 10ns) 膜層 |
穩定性能溫度范圍 | -50℃ – +70℃ |
備注：快譜光電能夠為您的應用提供優化的設計、高質量、高效率，完善功能的RTP晶體電光開關（RTP晶體普克爾盒）和配套驅動。
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